Engineering
ファーウェイが「タウ・スケーリング則」を発表——米制裁を「加速剤」に変えた中国の半導体戦略と2031年の地政学
ファーウェイが2026年5月25日、EUV露光装置なしに1.4nm相当の性能を実現する「タウ・スケーリング則」を発表した。3次元積層と信号速度最適化によりムーアの法則を迂回するこの構想は、米国の輸出規制が「封じ込め」ではなく「加速剤」として機能している実態を浮き彫りにする。
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